对树脂内电子的加持，硬生生的撸到了150nm波长可以通过的程度。

理论上这玩意儿拿出来，已经能够让卡尔蔡司这种企业头皮发麻，甚至对当前版本的光刻机进行一定程度的升级。

只是这对于王易来说，却还是相当的不满意。

他用的可是魔法科技，极限堆到150nm都这么吃力了，未来euv光刻机已经接近x射线临界值的13.5nm，光子能级可是超过了150nm深紫外线能级的十倍！

所以未来euv光刻机选择的是不断的反射来进行汇聚调整，最终只有4%左右的利用率，这对光源功率、反射材料与精度的需求都极高。

哪怕是王易，也不可能短时间全部克服这些问题！

毕竟13.5nm的极紫外线，连空气都能电离了，反射材料本身也会有使用寿命的，还要考虑使用过程中光线对材料的破坏。

这种高精度的设备，只要有轻微的破坏都足够导致天壤之别的结果。

所以弯道超车的话，王易要撸出足够让这级别光线通过的材料才行！

本来最开始，王易就是靠着法师塔魔力准备强压，一步一步的将透光率提高，以力证道。

可这一次和这群数学家这么久的交流后，却完全为他打开了新的思路！

就像阿斯麦先是靠浸润式光刻机弯道超车，然后在佳能、康尼也开始研究浸润式，并想要利用以前积累的技术再次反超时，阿斯麦直接新开赛道弄出了euv光刻机，并一次性拉开了不可逾越的距离一样。

现在王易也是完全换了一种思路，直接以魔力为能够吸收光的电子赋能，形成某种程度上的魔力电离，然后再想办法解决自由电子带来的金属性！

堵不如疏！

而如何压制的办法，也通过这段时间的头脑风暴得到了相应的数学模型。

甚至